2021-09-23 回峰排針 文章來源:回峰電子 瀏覽量:922
構建并保持一個穩定的排針排母阻抗是排針排母要求的一部分。為實現這一目標,必須提供金屬接觸界面的固有穩定性。形成這種接觸界面,在接觸配合時必須避免或分離。這些不同的選擇就清楚地表明了貴金屬或稀有金屬與普通金屬的區別。
貴金屬鍍層(金、鈀等合金)的本質是游離表面膜。由于僅需在配合中與表面的配合運動,鍍層產生的界面金屬接觸是非常簡單的。這通常很容易實現。為保持接觸界面阻抗的穩定性,在設計排針排母時應注意保持接觸表面的貴金屬性,防止污染物、基材金屬擴散、接觸磨損等外界因素的影響。
普通金屬鍍層,尤其是錫和錫合金,其表面自然覆蓋氧化薄膜。錫鍍層在接觸過程中由于該氧化物易被破壞,金屬接觸易于建立。為了確保氧化膜在針排母配合時破裂,在電接線執行機構的有效期內,接觸界面不會被氧化。
在磨損腐蝕中,再氧化腐蝕是錫接觸鍍層性能下降的最主要機制。排針排母接觸鍍層應盡量為普通金屬鍍層。由于涂層易受硫化物和氯化物的腐蝕。氣體閥門經物的形成一般也是鍍鎳普通金屬。