對電性能的優化可以從以下幾個方面考慮，那就是控制已經存在和即將形成的位于接觸涂層表面的薄膜。排母排針電性的主要要求是建立并保持穩定的排母排針阻抗。

為了實現這一點，排母排針需要一個金屬接觸界面，以提供這種內在穩定性。創建這種接觸界面需要一層表面膜，以避免或分離接觸配合。這些不同的選擇使貴金屬或稀有金屬與普通金屬有明顯的區別。

貴金屬鍍層(如金、鈀及其合金)在不同的程度上，其本質上是在表面膜上游離的。與這些鍍層形成界面的金屬接觸是相當簡單的，因為它只是要求在配合時，接觸表面的伴生物的運動。

一般來說，這很容易實現。為了保持接觸界面阻抗的穩定性，排母排針裝置設計時應注意保持接觸表面的貴金性，以防止外部因素如污染物、基材金屬的擴散和接觸磨損的影響。

一般的金屬鍍層，尤其是錫或錫合金，其表面會自然地包覆氧化膜。錫會與鍍層接觸，因為這層氧化物在配合時容易被破壞，所以金屬接觸很容易建立。

排母排針結構需要的是能夠保證在排母管配合時氧化膜破裂，同時確保電連桿持力期內不會再氧化接觸界面。在耐磨性腐蝕中，再氧化腐蝕是接觸鍍錫層性能退化的主要機制。排母排針接觸鍍層，由于易受硫化物和氯化物的腐蝕，所以最好將其作為普通金屬鍍層。因為氣體閥經線的形成，鎳鍍層通常也被視為普通金屬。